반도체 제조 8대 공정에는 웨이퍼 제조, 산화, 포토(노광), 식각, 이온 주입, 증착, 연마, 세정, 금속 배선이 있습니다. 이 중에서 포토와 식각, 증착 과정이 가장 중요하다고 합니다. 이 포스팅에서는 산화, 포토(노광) 과정을 알아보겠습니다.
(2022년 11월 5일 [염블리와 함께] 방송)
1. 반도체 전 공정 두 번째 단계 산화
1) 산화 공정이란
2) 산화 공정 밸류 체인
2. 반도체 전 공정 세 번째 단계 - 포토(노광)
1) 포토 공정이란
2) 사진 현상과 비슷해서 포토 공정
3) 웨이퍼에 감광액을 바른다
감광액을 안쓰는 방법을 도입한다고 합니다. 그러면 감광액 업체에는 안좋을 수도 있습니다.
4) 노광 장비
5) 노광 장비 밸류 체인
6) 포토마스크 밸류체인
EUV용 펠리클을 에스앤에스텍, 에프에스티가 개발하고 있답니다.
3. 반도체 설비투자 공시 기업 리스트
4. 염블리와 함께 링크 (2022년 11월 5일)
https://youtu.be/1FpqRiS-Zgc?si=-x9c_FxWVQEJOf-G
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